宁波工业烤箱的工厂
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。
洁净节能氮气柜的温湿度记录功能:
2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。
2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。
2.5.3 品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。
洁净节能氮气柜的湿度警报系统:
1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能
1.6.2可另外选配积层式警示灯。
1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。
合肥真萍科技为您提供专业质量服务。宁波工业烤箱的工厂
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。
一、氮气监控系统:
1.1、2.3” LED 大屏幕数字显示湿度/温度。
1.2 、温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。
1.3 、温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。
1.4 、湿度控制:
2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。
2.4.2湿度在1%-60%RH 可调整。
1.5、温湿度记录功能:
2.5.1内建内存,可储存温度/湿度,收集时间1~240 分钟可自行设定。
2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。
2.5.3 品管记录格式设计,有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。
1.6、湿度警报系统:
1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件,内配蜂鸣器(90分贝)及闪烁警示功能。
1.6.2可另外选配积层式警示灯。
1.7、温湿度偏移校正功能:内建校正功能,确保显示准确度。 南通工业烤箱非标定制工业烤箱如何选择?合肥真萍科技告诉您。
箱体结构:
1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2 进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。
2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采用进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。
3保温材料:采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,防止了热能浪费。
4电热部分:采用覆套式电热器(SHEATHED HEATER)无尘无氧化电热发生器
5风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100;
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。
柜体规格、配备:
1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。
2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。
3. 附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。
4.上掀式气密盖,方便 FFU保养及维修。
5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。
6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。 合肥真萍科技为您提供专业的售后服务!
超高真空烘箱
一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.
二、主要技术指标:
1、工作室温度范围:常温~ +300℃ 用户使用温度260℃
2、温度波动度: ±1.0℃(空载);
3、温度偏差: 常压温度试验:常温~200℃时±2℃
200~300℃时±5.0℃
低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃,
100℃~200℃时±5.0℃
200℃~300℃时±7.0℃
4、 升降温速率:
升温时间:①常压时:90min(常温~ +260℃)
②低气压0.0001pa时:180min(常温~ +260℃)
降温时间:3℃~10℃/min(260℃~ 120℃), 1℃~5℃/min(120℃~ 常温℃)
降温方式:水冷降温
5、试验箱承压方式:采用内承压方式
6、压力范围: 常压~0.0001Pa 合肥真萍科技工业烤箱值得推荐。南通工业烤箱非标定制
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HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。
增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 宁波工业烤箱的工厂
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